Có hai phương pháp sản xuất cho các sản phẩm gốm silicon nitride, cụ thể là thiêu kết phản ứng và ép nóng. Phương pháp thiêu kết phản ứng là đúc bột silicon hoặc hỗn hợp bột silicon và bột nitride silicon theo phương pháp sản xuất chung của các sản phẩm gốm. Sau đó, trong lò nitriding, nitriding trước được thực hiện ở nhiệt độ 1150 ~ 1200 độ. Sau khi có được một sức mạnh nhất định, nó có thể được gia công và sau đó tiếp tục được nitrit ở 1350 ~ 1450 độ trong 18 ~ 36 giờ cho đến khi nó được chuyển đổi hoàn toàn thành nitride silicon.
Các sản phẩm được sản xuất theo cách này có kích thước chính xác và khối lượng ổn định. Phương pháp ép nóng là làm nóng và thiêu kết bột nitride silicon với một lượng nhỏ phụ gia (như MgO, AL2O3, MGF2, ALF3 hoặc FE2O3, v.v.) ở áp suất hơn 19,6MPa và nhiệt độ 1600 ~ 1700 độ. Thông thường, các sản phẩm được ép nóng có mật độ cao hơn và hiệu suất tốt hơn so với các sản phẩm thu được bằng cách thiêu kết phản ứng.
